全自动涂胶显影设备LM-200系列

主要应用于前道生产线i-line、KrF涂覆工艺,采用6oven+1Robot平铺式架构,占地小产能高。具备EBR、BSR、 RRC、Auto dummy等功能,选配光刻胶显影液温控、HMDS等功能

0755 - 85259297

产品特点
PRODUCT FEATURE

• Robot自动mapping功能 • 支持产能145片(每小时) • 支持工厂自动化可处理PR或PI显影 • 显影喷嘴开状可定制 • 关键模组及软件自主研发,可塑性强 • 国产化程度高,国产化用量90%以上 • 模块化定制:HMDS、HP/CP、MES接口等

集成IC、分立器件、光电子器件、传感器、先进封装、实验室科研等；

如MEMS、IGBT、LED、射频集成等

衬底材质： Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、SiC、LT、LN等

芯片尺寸/对应产品	6吋、8吋
对应产品	2吋、4时、6时、8时(方片or圆片)
匀胶/显影	2C/2D+MAX
冷盘/热盘	MAX 6
外形尺寸	W1400xD1500xH2300(mm)
直驱马达加速度	30000RPM/SEC
极限转速	每分钟6000转（RPM）
设备配置	全自动：1C1D、2C、2D--适用中试线半自动：1C、1D-适用科研、实验室
适用工艺	i-line、G-line、KrF、ArF、Barc、PI、SOG、SOC等

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